亿欧智库：2025年泛半导体光刻胶供应链发展研究报告

光刻胶是利用光化学反应经曝光、显影、刻蚀等工艺将所需要的微细图形从掩模板转移到待加工基片上的图形转移介质。 u 光 国 刻 产 胶 光 是 刻 泛 胶 半 集 导 中 体 以 制 低 造 端 工 产 艺 品 中 为 光 主 刻 ， 技 技 术 术 的 水 核 平 心 与 材 国 料 外 ， 差 其 距 品 较 质 大 直 。 接 但 影 是 响 伴 成 随 品 国 的 内 性 政 能 策 和 的 良 积 率 极 。 推 主 动 要 ， 成 已 分 有 是 少 由 数 树 企 脂 业 、 崭 感 露 光 头 剂 角 、 。 溶 所 剂 需 和 光 添 刻 加 胶 剂 的 构 场 成 景 。 大 目 致 前 分 ， 为 PCB、LCD以及半导体。