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头豹研究院:中国半导体设备(1):薄膜沉积设备(CVD&PVD)

发布者:wx****87
2026-05-08
2 MB 26 页
半导体 头豹研究院
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头豹研究院:中国半导体设备(1):薄膜沉积设备(CVD&PVD).pdf
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报告摘要 半导体设备国产替代:中国晶圆厂半导体设备国产化率已提升至35%,预计2025年达50% 全球半导体设备市场高度集中,海外龙头厂商仍处于垄断地位,中国半导体设备厂商已覆盖多个细分领域,但国产替代仍处于早期阶段。根据SEMI,2022年中国晶圆厂商半导体设备国产化率明显提升,从21%提升至35%。预计2025年,国产化率将会达到50%,并初步摆脱对美国半导体设备的依赖。目前在28nm及以上领域,中国半导体设备厂商已基本实现了全覆盖,部分刻蚀、清洗环节已推进至先进制程节点,国产化率达80%以上。而在14nm工艺上,中国半导体设备厂商也实现了50%以上的覆盖,国产化率可能达到了20%以上。目前在14nm以下,国产化率仍较低,仅为10%左右。 薄膜沉积设备市场:2023年全球市场规模达260亿美元,市场被海外厂商所垄断 根据MaximizeMarketResearch数据,全球薄膜沉积设备市场规模预计由2017年的125亿美元增长至2025年的340亿美元。未来,逻辑芯片制程升级、存储芯片堆叠层数提升、新工艺的应用,使得薄膜沉积设备在产线中的占比及价值量逐步提升,全球薄膜沉积设备市场规

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