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东海证券:拓荆科技(688072)-公司深度报告:深耕薄膜沉积技术护城河,打造混合键合第二增长极

发布者:wx****2f
2026-01-27
4 MB 26 页
半导体 东海证券
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东海证券:拓荆科技(688072)-公司深度报告:深耕薄膜沉积技术护城河,打造混合键合第二增长极.pdf
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拓荆科技(688072) 投资要点: 国内半导体薄膜沉积设备龙头企业,业绩高速增长印证行业领先地位。作为国内半导体核心设备领域的领先企业,公司已构建起以薄膜沉积设备和先进键合及配套量检测设备为核心的双平台驱动格局。在薄膜沉积主赛道,公司以PECVD设备为基石,横向拓展至ALD、HDPCVD、SACVD等多类关键设备,其产品矩阵已广泛覆盖逻辑、存储芯片制造所需的薄膜材料及工艺应用。同时,公司前瞻性切入面向3D集成与先进封装的晶圆键合领域,其中混合键合设备已实现技术突破并进入客户验证,进一步巩固其平台化技术延伸能力。在半导体国产化加速与晶圆厂持续扩产的行业背景下,公司业绩实现高速增长,2020-2024年营业收入由4.4亿元攀升至41.0亿元,复合年增长率达75%;归母净利润自2021年扭亏为盈后连续三年保持增长,2024年达6.9亿元。截至2024年末,公司在手订单金额约94亿元,同比增长约46%,展现出强劲的市场需求与客户认可,持续印证了其技术稀缺性与产业卡位优势。 公司把握先进制程与三维集成趋势,薄膜沉积业务持续高增长。薄膜沉积作为半导体前道制造的核心环节,其技术演进与芯片制程提升及

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