Uresearch：2024-2028年全球PCB曝光设备行业市场研究报告

发布者：wx****9d

2024-08-27

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半导体

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资源简介

光刻技术（Photo-lithography）是人类迄今所能达到的尺寸最小、精度最高的加工技术，是利用光学-化学反应原理和化学、物理刻蚀方法，将设计好的微图形结构（如电路线路图）转移到覆有感光材料的晶圆、玻璃基板、覆铜板等基材表面上的微纳制造技术。光刻技术主要包括预处理、涂胶、曝光、显影、蚀刻和去胶等一系列环节，整个工艺流程是一个复杂的过程，各工艺环节互相影响、互相制约。曝光工序是光刻技术中最重要的工艺环节，决定了微图形结构及其产品的质量

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