开源证券：基础化工行业点评报告：高纯磷及磷系半导体材料助力磷化工估值提升

高纯磷及磷系半导体材料赋能，磷化工迎来估值提升、新旧动能加速转换 合成磷化物磷化铟InP、磷化镓GaP、磷化铝AlP、磷化锌Zn3P2、磷化钙Ca3P2、磷砷化镓铝AlGaAsP、磷砷化镓铟InGaAsP、磷砷化镓GaAsP等属于化合物半导体，广泛应用于集成电路、太阳能电池、晶体硅、半导体、液晶显示、光纤预制棒和光化学等领域。在集成电路制造过程中，掺杂是在硅片规定的区域内引入所需杂质（如磷、硼等），并达到数量可控、分布符合要求的目的，以实现半导体电学特性的改变，上述磷化物也是集成电路掺杂的固态磷源。磷化铟是由铟与磷组成的Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体，属于第二代半导体材料，核心优势在于高频性能与发光能力，可同时实现高速发光与高速调制，是高速光模块的核心材料。磷化铟生产需要7N级（纯度99.99999%）以上高纯铟和高纯红磷。磷元素晶体为简单立方晶胞，有黄磷（白磷）、红磷（赤磷）和黑磷（紫磷、金属磷）3种同素异构体。红磷是一种复杂的高分子固态聚合物，为黄磷的聚合体。高纯红磷单体原料一般先以电炉法工艺制备工业级黄磷（纯度一般为99.5%-99.8%），再经过除杂提纯净化，最终转化为高纯红磷原料。净化